碳化硅环是通过化学气相沉积法制备，经过研磨、抛光、氧化、清洗等多道工序获得的纯固态多晶碳化硅产品，最大直径380mm，电阻率覆盖高、中、低阻，品质对齐国际一流水准。
主要应用于等离子体刻蚀、化学气相沉积（CVD）设备的反应腔部件，产品拥有高纯度及耐环境性能，能承受强酸强碱、等离子体侵蚀，无变形或降解。同时具有极高的结构稳定性，可通过耐磨耐蚀等特性进而延长设备运行寿命，满足对部件精度与洁净度要求极高的产线需求。
